工业显微镜的照明系统分类

工业显微镜的照明系统是其成像质量的核心影响因素之一，不同照明方式直接影响图像的亮度、对比度和清晰度。以下是工业显微镜照明系统的分类、特点及应用场景：

一、基础照明类型

透射照明

原理：光源穿透透明/半透明样品，利用轮廓光成像。

特点：边缘清晰，适合观察内部结构（如液晶面板分层、生物切片）。

应用：电子元件透明封装检测、材料内部缺陷分析。

反射照明

垂直反射：光源垂直照射样品表面，突出纹理细节。

适用场景：金属零件表面粗糙度测量、矿物晶体观察。

斜反射：光源以角度照射，减少阴影干扰。

适用场景：复杂结构（如齿轮齿形、模具刻痕）检测。

环形照明

原理：环状光源均匀照射样品，消除方向性阴影。

特点：高均匀性，适合精密零件（如半导体晶圆、光学镜片）。

应用：玻璃划痕检测、轴承滚珠表面质量检测。

二、**照明技术

暗场照明

原理：仅收集样品散射光，暗背景下缺陷清晰可见。

特点：对低反射区域（如划痕、尘埃）敏感。

应用：硅片表面污染检测、陶瓷裂纹分析。

同轴照明

原理：光束通过物镜中心轴反射，避免眩光。

特点：适合光滑/镜面样品（如抛光金属、镀膜玻璃）。

应用：手机外壳镀膜均匀性检测、反光片表面检查。

近垂直照明（NVI）

原理：LED光源贴近光轴，模拟自然光无阴影效果。

特点：适合深孔/凹槽样品（如模具、钻孔电路板）。

应用：微型钻孔质量检测、微小零件尺寸测量。

荧光照明

原理：短波激发光诱导样品荧光标记发光。

特点：高灵敏度，适合生物样本或特殊材料。

应用：荧光渗透检测、纳米材料分布分析。

偏光照明

原理：分析偏光特性，增强各向异性材料对比度。

特点：适合晶体、液晶、应力分析。

应用：金属晶粒取向检测、光纤应力双折射测量。

微分干涉（DIC）照明

原理：Nomarski棱镜分光形成立体浮雕效果。

特点：凸显样品表面微小起伏。

应用：硅片表面波纹检测、细胞培养皿生长状态观察。

三、光源类型对比

四、选型建议

样品特性优先：

透明/半透明样品 → 透射照明

不透明/高反射样品 → 反射/暗场照明

复杂三维结构 → 环形/近垂直照明

检测需求匹配：

表面缺陷检测 → 暗场/微分干涉

尺寸测量 → 同轴/垂直反射

材料分析 → 荧光/偏光

环境适应性：

生产线高频使用 → LED光源（免维护）

实验室高精度检测 → 激光光源（需配合冷却系统）

通过合理选择照明系统，可显著提升工业显微镜的检测效率和图像质量，满足不同场景的精细化观测需求。